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          當前位置:首頁產品中心同位素質譜儀PHI ADEPT010動態二次離子質譜儀D-SIMS

          動態二次離子質譜儀D-SIMS
          產品簡介

          ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學系統 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。

          產品型號:PHI ADEPT010
          更新時間:2025-04-10
          廠商性質:代理商
          訪問量:749
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            動態二次離子質譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術。
           
            ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學系統 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
           
            工作原理:
           
            動態二次離子質譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面,使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中,部分濺射出的粒子會帶電,形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸到質譜儀中進行分析,通過質譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。
           

          動態二次離子質譜儀

           

           

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